Ez egy AI által fordított bejegyzés.
Samsung Chem, megkezdi a következő generációs litográfiai berendezésekhez való CNT pelikula tömeggyártását - Hevesedik a verseny a japán félvezető iparban
- Írás nyelve: Koreai
- •
-
Referencia ország: Japán
- •
- Informatika
0000-00-00 00:00:00
Válasszon nyelvet
A durumis AI által összefoglalt szöveg
- A Samsung Chem 2025 decemberében befejeződő iwakuni ótake-i gyárában évi 5000 darabos kapacitású szén nanocsöves (CNT) pelikula gyártó berendezést épít.
- A CNT pelikula a félvezető gyártási folyamatban védi a fotomaszkot a karcolásoktól és a portól, amelyek csökkentik a termelékenységet, és különösen alkalmas az EUV (extrém ultraibolya) litográfiai technológiához, amely a fejlett félvezetők gyártásához elengedhetetlen.
- A tömeggyártási döntés az EUV litográfiai technológia növekvő igényével és bevezetésével járó fejlett félvezető keresletre adott válasz, ami a japán félvezető iparban a verseny fokozódását jelzi.
A Samsung Chemical bejelentette, hogy megkezdi a szilícium-karbid nanocsövek (CNT) pelikula gyártását, amelyet a félvezetőgyártáshoz használt új generációs litográfiai berendezésekben alkalmaznak. A gyártás beindítása a japán Iwaku-ni Ota-ke gyárban (Yamaguchi prefektúra, Waki város) történik, ahol egy gyártósort állítanak fel, amely várhatóan 2025 decemberében készül el. A tervezett éves termelési kapacitás 5 000 lap, a beruházás nagyságát azonban nem hozták nyilvánosságra.
A Samsung Chemical CNT-pelikula gyártása a növekvő igényekre adott válaszként született a fejlett félvezetők iránt. A pelikula egy vékony védőréteg, amelyet a fotomaszk (félvezető áramkör alapja) felületére helyeznek, és megakadályozza a karcolódásokat és a szennyeződések lerakódását, így növelve a litográfiai folyamat hatékonyságát.
A mesterséges intelligencia (AI) alkalmazásának felgyorsulásával a félvezetők, amelyek a adatfeldolgozásért felelősek, egyre nagyobb sebességre és alacsonyabb energiafogyasztásra tesznek szert. Ennek a követelménynek a kielégítéséhez elengedhetetlen a vezetőpályák méretarányának miniatürizálása, a mikrostrukturált áramkörök létrehozásához pedig egyre nagyobb mértékben alkalmazzák a távolító ultraibolya (EUV) litográfiai technológiát.
A Samsung Chemical célja, hogy a magas áteresztőképességű és fényállósággal rendelkező CNT-pelikula forgalomba hozatalával kielégítse a fenti igényeket, amelyek megfelelnek az EUV-litográfiai környezetnek. A gyártás megkezdéséről szóló döntéssel várhatóan tovább fokozódik a japán félvezető-iparban a verseny.
