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三星化学开始生产下一代曝光设备用 CNT pellicle - 日本半导体产业竞争加剧
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基准国家： 日本
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- 三星化学将在 2025 年 12 月完工的日本岩国大竹工厂建设年产 5,000 片的碳纳米管 (CNT) pellicle 生产设施。
- CNT pellicle 在半导体制造过程中保护光刻掩模，防止划痕和灰尘造成生产效率下降，特别适合先进半导体制造中不可或缺的极紫外 (EUV) 曝光技术。
- 此次量产决定是为了应对不断增长的先进半导体需求和 EUV 曝光技术的普及，预示着日本国内半导体产业竞争将加剧。
三星化学宣布将量产用于半导体制造下一代曝光设备的碳纳米管（CNT） pellicle。此次量产将在日本岩国大竹工厂（山口县和木町）建设生产设施，预计将于 2025 年 12 月完工，年产能为 5,000 张，投资规模尚未公开。
三星化学此次 CNT pellicle 量产是为了应对不断增长的尖端半导体需求。pellicle 是一种附着在光刻掩模（半导体电路基板）表面的薄保护膜，它可以防止划痕和灰尘附着，从而提高曝光工艺的生产效率。
近年来，随着人工智能（AI）等应用的加速发展，负责数据处理的半导体对高速处理能力和低功耗消耗提出了要求。为了满足这些要求，缩小电路线宽是必不可少的，而采用极紫外（EUV）曝光技术的微细化电路形成正在逐步扩大。
三星化学计划通过将具有高透光性和耐光性的 CNT pellicle 商业化，来满足 EUV 曝光环境下的需求。此次量产决定预计将加剧日本国内半导体行业的竞争。
