Samsung Chemical đã thông báo sẽ sản xuất hàng loạt màng 펠리클 (CNT) nano carbon, được sử dụng trong thiết bị chiếu sáng thế hệ tiếp theo dành cho sản xuất chip bán dẫn. Việc sản xuất hàng loạt sẽ được thực hiện thông qua việc thiết lập cơ sở sản xuất tại nhà máy Iwakuni Otaki (Wakicho, Yamaguchi Prefecture, Nhật Bản), dự kiến ​​hoàn thành vào tháng 12 năm 2025, với công suất sản xuất hàng năm là 5.000 tấm. Quy mô đầu tư không được công khai.

Việc sản xuất hàng loạt màng 펠리클 (CNT) của Samsung Chemical nhằm đáp ứng nhu cầu ngày càng tăng đối với chip bán dẫn tiên tiến. Màng 펠리클 là một lớp bảo vệ mỏng được gắn trên bề mặt của mặt nạ quang học (mặt nạ chip bán dẫn), ngăn ngừa trầy xước và bụi bám vào, giúp nâng cao năng suất của quá trình chiếu sáng.

Gần đây, với sự gia tốc trong việc sử dụng trí tuệ nhân tạo (AI), các chip bán dẫn xử lý dữ liệu đang đối mặt với nhu cầu xử lý tốc độ cao và tiêu thụ năng lượng thấp. Để đáp ứng những nhu cầu này, việc thu nhỏ kích thước đường dẫn là điều cần thiết, và việc áp dụng công nghệ chiếu sáng cực tím (EUV) để tạo thành các mạch nhỏ đã được mở rộng một cách mạnh mẽ.

Samsung Chemical có kế hoạch đáp ứng những nhu cầu này thông qua việc thương mại hóa màng 펠리클 (CNT) có khả năng xuyên sáng cao và khả năng chống ánh sáng phù hợp với môi trường chiếu sáng EUV. Quyết định sản xuất hàng loạt được cho là sẽ làm trầm trọng thêm cuộc cạnh tranh trong ngành công nghiệp chip bán dẫn của Nhật Bản.